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硅钼棒在高温氧化气氛下，表面生成一层石英保护层防止硅钼棒继续氧化。当元件温度大于1700℃时，石英保护层熔融，元件在氧化气氛下，继续使用，石英保护层重新生成。硅钼棒不宜在400-700℃范围内长期使用，否则元件会因低温的强烈氧化作用而粉化。

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在氧化气氛下，元件高使用温度为1800℃，根据用户需求可制成棒状，U型、W型、U型直角等形状。硅钼棒通常可使用的炉体温度为1300℃-1800℃，广泛应用于冶金、玻璃、陶瓷、磁性材料、耐火材料、晶体、电子元器件、窑炉制造等领域、是产品高温烧结时必备的理想发热元件。

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U型硅碳棒生产厂家在使用过程中的注意事项：

例如在氢气气氛中，SiO2保护膜可能被还原而遭***。因此，在氢气气氛中使用后，应向炉内通入空气，在1500℃下加热lh，使棒体表面重新形成—层Si02保护薄膜。

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